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Thermal EMMI

Thermal ELITE,對2.5D與3D 的先進封裝失效熱點定位,可達到非常好及快速的失效位置查找. 其能夠通過紅外熱成像技術來檢測物體表面的溫度分佈,有缺陷的半導體裝置通常會表現出局部功耗的變化,導致局部溫度升高,從而識別出可能存在的故障或問題,並利用鎖定紅外線熱成像 (LIT) 來準確、有效率的定位這些區域,並提供非破壞性的完整封裝觀察結果。

 

利用高靈敏度之InSb(銻化銦) detector偵測待測物在通電狀態下,缺陷位置所產生之熱輻射的分佈,藉以定位失效所在位置,甚至可估算出熱源縱深距離。 特點與應用:

  1. 高解析度紅外熱成像:配備了高解析度的紅外熱成像技術,能夠捕獲物體表面微小溫度變化的細節。
  2. 故障檢測和分析:透過檢測物體表面的溫度異常,可以快速識別出潛在的故障或問題,例如電子元件的過熱、設備的熱失效等。
  3. 應用廣泛:可以應用於產品短路、ESD 缺陷、氧化物破損、裝置閉鎖、有缺陷的電晶體、二極體。 總的來說,是一種功能強大的熱影像分析儀器,能夠幫助快速準確的進行故障分析定位。

 

 

 

技術原理

THEMOS mini 為簡易、節省空間之最新電性故障定位設備,可直接並快速地透過 IC 正面或背面來找出缺陷所在位置,更可在 IC 未開蓋狀態下定位出失效點為 IC 本身或封裝問題,是非破壞性分析的絕佳利器。

 

其原理乃利用高靈敏度之 InSb detector 偵測 IC 在通電狀態下,缺陷位置所產生之熱輻射的分佈,藉以定位出失效所在位置,甚至可估算出熱源在縱深的距離,非常適合 stacked die 的封裝產品分析。此設備原理類似於早期的液晶偵測技術,除了 IC 與 Package 以外,還可應用於大面積的產品,如 PCB、面板、被動元件等。

 

 

 

機台種類


Thermo ELITE


Thermo ELITE

 

Characteristics

Limit

 

高電壓範圍

±3000V (@100mA)

高電流範圍

3A (@40V)

鎖定頻率

1Hz~89Hz

廣角鏡範圍

30cm*30cm

鏡片

WA、1X、10X、LSM20X、LSM50X

特點

背面探針、鑲嵌拼接

 Thermo ELITE 規格

 

HAMAMATSU THEMOS mini

 

 

 

分析應用

  • 具市場上最高靈敏度的熱源偵測系統
  • 即時鎖定測量,提高信噪比
  • 差異化溫度解析度:數秒後 <1 mK;數小時後 <10 uK
  • 檢測金屬接觸孔的阻值異常部分 (via/contact)
  • 堆疊晶片、封裝打線、PCB 屬 traces 缺陷或短路
  • 介電層崩潰 / 漏電
  • TFT-LCD 漏電 / Organic EL 漏電定位
  • 偵測元件開發階段時於應用狀態下之異常溫度變化
  • ESD 與閂鎖效應
  • 熱源縱深判讀
  • 靜態 / 動態分析

 

Thermal emission analysis image through IC's backside

 


IC backside 影像 + thermal emission / Thermal emission 

 

 


Thermal emission analysis image through IC’s front side 

 


IC外觀圖 / X-ray 照片 / 熱影像圖

 

Thermal emission heat source depth estimation

 

 

 

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